代理德國thyracont皮拉尼真空計

大連力迪流體(ti) 控製技術有限公司作為(wei) thyraconts代理，誠摯為(wei) 各位提供德國thyracont全係列產(chan) 品。

一、Thyracont品牌核心優(you) 勢

德國Thyracont成立於(yu) 1970年，50餘(yu) 年專(zhuan) 注真空測量技術創新，以高精度、耐用性及智能化為(wei) 核心競爭(zheng) 力。其產(chan) 品融合傳(chuan) 統工藝與(yu) 現代技術，例如的微型Pirani螺旋絲(si) 和寬量程組合傳(chuan) 感器，已成為(wei) 行業(ye) 標準。

代理德國thyracont皮拉尼真空計優(you) 勢：

• 具有16bar的超壓穩定性，無需超壓閥，節約成本

• 響應速度快，精度高

• 防護等級可達IP54

• 法蘭(lan) 處耐溫度，高達160攝氏度

• 輸出信號:4-20mA,0- 10v, RS485, EtherCAT, Profinet滿足不同的控製係統連接

Ø 磁控濺射鍍膜設備以及離子鍍膜設備所需的超高真空度範圍，thyracont的VSM冷陰極和VSH熱陰極複合真空規

l VSM 1000到5*E-9mbar（5*E-7Pa） 皮拉尼/冷陰極

1. 磁控濺射是一種物理氣相沉積技術，利用磁場和電場約束電子，提高濺射效率。磁控濺射的工作過程，比如氬離子轟擊靶材，濺射原子沉積到基片上形成薄膜。其中，在真空腔室（通常抽至1*E-5mbar(1*E-3Pa)量級）中通入氬氣。

a) 通常會(hui) 使用皮拉尼冷陰極複合規。

l VSH 1000到5*E-10mbar（5*E-8Pa） 皮拉尼/熱陰極

1. 離子鍍膜設備是基於(yu) 物理氣相沉積（PVD）技術的高精度表麵處理設備，通過等離子體(ti) 環境中的離子轟擊實現膜層沉積，廣泛應用於(yu) 工具、裝飾、電子、光學等領域。

2. 磁控濺射需本底真空≤5×10⁻⁶ Torr（≈6.67×10⁻⁴ Pa）以避免油蒸氣汙染

3. 半導體(ti) /光學鍍膜（如晶圓封裝、濾光片）

a) 真空度：晶圓封裝需<5×10⁻⁷ mbar（≈5×10⁻⁵ Pa），光學鍍膜需<1×10⁻⁶ Pa

b) 目標：納米級膜厚精度（±1%），避免氣體(ti) 吸附導致的光學損耗

c) 通常會(hui) 使用皮拉尼熱陰極複合規

各品牌產(chan) 品對比